SiC സഫയർ Si GAAs വേഫറിനുള്ള സിലിക്കൺ കാർബൈഡ് സെറാമിക് ചക്ക്

SiC സഫയറിനുള്ള സിലിക്കൺ കാർബൈഡ് സെറാമിക് ചക്ക് Si GAAs വേഫർ ഫീച്ചർ ചെയ്ത ചിത്രം

ഹൃസ്വ വിവരണം:

സിലിക്കൺ കാർബൈഡ് സെറാമിക് ചക്ക്, സെമികണ്ടക്ടർ പരിശോധന, വേഫർ ഫാബ്രിക്കേഷൻ, ബോണ്ടിംഗ് ആപ്ലിക്കേഷനുകൾ എന്നിവയ്ക്കായി രൂപകൽപ്പന ചെയ്ത ഉയർന്ന പ്രകടനമുള്ള പ്ലാറ്റ്‌ഫോമാണ്. സിന്റേർഡ് SiC (SSiC), റിയാക്ഷൻ-ബോണ്ടഡ് SiC (RSiC), സിലിക്കൺ നൈട്രൈഡ്, അലുമിനിയം നൈട്രൈഡ് എന്നിവയുൾപ്പെടെ നൂതന സെറാമിക് വസ്തുക്കൾ ഉപയോഗിച്ച് നിർമ്മിച്ച ഇത് ഉയർന്ന കാഠിന്യം, കുറഞ്ഞ താപ വികാസം, മികച്ച വസ്ത്രധാരണ പ്രതിരോധം, നീണ്ട സേവന ജീവിതം എന്നിവ വാഗ്ദാനം ചെയ്യുന്നു.

ഞങ്ങൾക്ക് ഇമെയിൽ അയയ്ക്കുക

ഫീച്ചറുകൾ

വിശദമായ ഡയഗ്രം

സിലിക്കൺ കാർബൈഡ് (SiC) സെറാമിക് ചക്കിന്റെ അവലോകനം

ദിസിലിക്കൺ കാർബൈഡ് സെറാമിക് ചക്ക്സെമികണ്ടക്ടർ പരിശോധന, വേഫർ നിർമ്മാണം, ബോണ്ടിംഗ് ആപ്ലിക്കേഷനുകൾ എന്നിവയ്ക്കായി രൂപകൽപ്പന ചെയ്ത ഉയർന്ന പ്രകടനമുള്ള പ്ലാറ്റ്‌ഫോമാണ്. നൂതന സെറാമിക് വസ്തുക്കൾ ഉപയോഗിച്ച് നിർമ്മിച്ചത്—ഉൾപ്പെടെസിന്റർ ചെയ്ത SiC (SSiC), പ്രതിപ്രവർത്തന-ബന്ധിത SiC (RSiC), സിലിക്കൺ നൈട്രൈഡ്, കൂടാതെഅലൂമിനിയം നൈട്രൈഡ്— അത് വാഗ്ദാനം ചെയ്യുന്നുഉയർന്ന കാഠിന്യം, കുറഞ്ഞ താപ വികാസം, മികച്ച വസ്ത്രധാരണ പ്രതിരോധം, നീണ്ട സേവന ജീവിതം.

പ്രിസിഷൻ എഞ്ചിനീയറിംഗും അത്യാധുനിക പോളിഷിംഗും ഉപയോഗിച്ച്, ചക്ക് നൽകുന്നുമൈക്രോണിൽ താഴെയുള്ള പരന്നത, കണ്ണാടി പോലുള്ള ഗുണനിലവാരമുള്ള പ്രതലങ്ങൾ, ദീർഘകാല മാന സ്ഥിരതനിർണായകമായ അർദ്ധചാലക പ്രക്രിയകൾക്ക് അനുയോജ്യമായ പരിഹാരമാക്കി മാറ്റുന്നു.

പ്രധാന നേട്ടങ്ങൾ

ഉയർന്ന കൃത്യത
ഉള്ളിൽ പരന്നത നിയന്ത്രിക്കപ്പെടുന്നു0.3–0.5 മൈക്രോൺ, വേഫർ സ്ഥിരതയും സ്ഥിരതയുള്ള പ്രക്രിയ കൃത്യതയും ഉറപ്പാക്കുന്നു.
മിറർ പോളിഷിംഗ്
നേടുന്നുറാ 0.02 μmഉപരിതല പരുക്കൻത, വേഫർ പോറലുകളും മലിനീകരണവും കുറയ്ക്കുന്നു - വളരെ വൃത്തിയുള്ള പരിതസ്ഥിതികൾക്ക് അനുയോജ്യം.
വളരെ ഭാരം കുറഞ്ഞ
ക്വാർട്സ് അല്ലെങ്കിൽ ലോഹ അടിവസ്ത്രങ്ങളെ അപേക്ഷിച്ച് ശക്തവും എന്നാൽ ഭാരം കുറഞ്ഞതുമാണ്, ചലന നിയന്ത്രണം, പ്രതികരണശേഷി, സ്ഥാനനിർണ്ണയ കൃത്യത എന്നിവ മെച്ചപ്പെടുത്തുന്നു.
ഉയർന്ന കാഠിന്യം
എക്‌സെപ്ഷണൽ യങ്ങിന്റെ മോഡുലസ് കനത്ത ലോഡുകളിലും അതിവേഗ പ്രവർത്തനത്തിലും ഡൈമൻഷണൽ സ്ഥിരത ഉറപ്പാക്കുന്നു.
കുറഞ്ഞ താപ വികാസം
CTE സിലിക്കൺ വേഫറുകളുമായി അടുത്തു പൊരുത്തപ്പെടുന്നു, ഇത് താപ സമ്മർദ്ദം കുറയ്ക്കുകയും പ്രക്രിയയുടെ വിശ്വാസ്യത വർദ്ധിപ്പിക്കുകയും ചെയ്യുന്നു.
മികച്ച വസ്ത്രധാരണ പ്രതിരോധം
ദീർഘകാല, ഉയർന്ന ആവൃത്തിയിലുള്ള ഉപയോഗത്തിലും തീവ്ര കാഠിന്യം പരന്നതും കൃത്യതയും നിലനിർത്തുന്നു.

നിര്‍മ്മാണ പ്രക്രിയ

അസംസ്കൃത വസ്തുക്കൾ തയ്യാറാക്കൽ
നിയന്ത്രിത കണികാ വലിപ്പവും വളരെ കുറഞ്ഞ മാലിന്യങ്ങളുമുള്ള ഉയർന്ന ശുദ്ധതയുള്ള SiC പൊടികൾ.
രൂപീകരണവും സിന്ററിംഗും
പോലുള്ള സാങ്കേതിക വിദ്യകൾപ്രഷർലെസ് സിന്ററിംഗ് (SSiC) or പ്രതിപ്രവർത്തന ബന്ധനം (RSiC)ഇടതൂർന്നതും ഏകീകൃതവുമായ സെറാമിക് അടിവസ്ത്രങ്ങൾ ഉത്പാദിപ്പിക്കുക.
പ്രിസിഷൻ മെഷീനിംഗ്
CNC ഗ്രൈൻഡിംഗ്, ലേസർ ട്രിമ്മിംഗ്, അൾട്രാ-പ്രിസിഷൻ മെഷീനിംഗ് എന്നിവ ±0.01 mm ടോളറൻസും ≤3 μm പാരലലിസവും കൈവരിക്കുന്നു.
ഉപരിതല ചികിത്സ
Ra 0.02 μm വരെ മൾട്ടി-സ്റ്റേജ് ഗ്രൈൻഡിംഗ് ആൻഡ് പോളിഷിംഗ്; നാശന പ്രതിരോധത്തിനോ ഇഷ്ടാനുസൃതമാക്കിയ ഘർഷണ ഗുണങ്ങൾക്കോ വേണ്ടി ഓപ്ഷണൽ കോട്ടിംഗുകൾ ലഭ്യമാണ്.
പരിശോധനയും ഗുണനിലവാര നിയന്ത്രണവും
ഇന്റർഫെറോമീറ്ററുകളും റഫ്‌നെസ് ടെസ്റ്ററുകളും സെമികണ്ടക്ടർ-ഗ്രേഡ് സ്പെസിഫിക്കേഷനുകൾ പാലിക്കുന്നുണ്ടോയെന്ന് പരിശോധിക്കുന്നു.

സാങ്കേതിക സവിശേഷതകൾ

പാരാമീറ്റർ	വില	യൂണിറ്റ്
പരന്നത	≤0.5	μm
വേഫർ വലുപ്പങ്ങൾ	6'', 8'', 12'' (ഇഷ്ടാനുസൃതം ലഭ്യമാണ്)	—
ഉപരിതല തരം	പിൻ തരം / റിംഗ് തരം	—
പിൻ ഉയരം	0.05–0.2	mm
കുറഞ്ഞ പിൻ വ്യാസം	ϕ0.2	mm
കുറഞ്ഞ പിൻ സ്‌പെയ്‌സിംഗ്	3	mm
കുറഞ്ഞ സീൽ റിംഗ് വീതി	0.7 ഡെറിവേറ്റീവുകൾ	mm
ഉപരിതല പരുക്കൻത	രാ 0.02	μm
കനം സഹിഷ്ണുത	±0.01	mm
വ്യാസം സഹിഷ്ണുത	±0.01	mm
സമാന്തര സഹിഷ്ണുത	≤3	μm

പ്രധാന ആപ്ലിക്കേഷനുകൾ

സെമികണ്ടക്ടർ വേഫർ പരിശോധന ഉപകരണങ്ങൾ
വേഫർ നിർമ്മാണവും കൈമാറ്റ സംവിധാനങ്ങളും
വേഫർ ബോണ്ടിംഗ് & പാക്കേജിംഗ് ഉപകരണങ്ങൾ
നൂതന ഒപ്റ്റോ ഇലക്ട്രോണിക് ഉപകരണ നിർമ്മാണം
അൾട്രാ-ഫ്ലാറ്റ്, അൾട്രാ-ക്ലീൻ പ്രതലങ്ങൾ ആവശ്യമുള്ള കൃത്യതയുള്ള ഉപകരണങ്ങൾ

ചോദ്യോത്തരങ്ങൾ – സിലിക്കൺ കാർബൈഡ് സെറാമിക് ചക്ക്

Q1: SiC സെറാമിക് ചക്കുകൾ ക്വാർട്സ് അല്ലെങ്കിൽ മെറ്റൽ ചക്കുകളുമായി എങ്ങനെ താരതമ്യം ചെയ്യും?
A1: SiC ചക്കുകൾ ഭാരം കുറഞ്ഞതും, കൂടുതൽ കടുപ്പമുള്ളതും, സിലിക്കൺ വേഫറുകളോട് അടുത്ത് CTE ഉള്ളതുമാണ്, ഇത് താപ രൂപഭേദം കുറയ്ക്കുന്നു. അവ മികച്ച വസ്ത്രധാരണ പ്രതിരോധവും ദീർഘായുസ്സും വാഗ്ദാനം ചെയ്യുന്നു.

ചോദ്യം 2: എന്ത് പരന്നത കൈവരിക്കാൻ കഴിയും?
A2: ഉള്ളിൽ നിയന്ത്രിക്കപ്പെടുന്നു0.3–0.5 മൈക്രോൺ, സെമികണ്ടക്ടർ ഉൽ‌പാദനത്തിന്റെ കർശനമായ ആവശ്യങ്ങൾ നിറവേറ്റുന്നു.

ചോദ്യം 3: ഉപരിതലത്തിൽ വേഫറുകളിൽ പോറൽ വീഴുമോ?
A3: ഇല്ല—മിറർ പോളിഷ് ചെയ്‌തത്റാ 0.02 μm, പോറലുകളില്ലാത്ത കൈകാര്യം ചെയ്യലും കണിക ഉത്പാദനം കുറയ്ക്കലും ഉറപ്പാക്കുന്നു.

ചോദ്യം 4: ഏതൊക്കെ വേഫർ വലുപ്പങ്ങളാണ് പിന്തുണയ്ക്കുന്നത്?
A4: സ്റ്റാൻഡേർഡ് വലുപ്പങ്ങൾ6'', 8'', 12'', ഇഷ്‌ടാനുസൃതമാക്കൽ ലഭ്യമാണ്.

ചോദ്യം 5: താപ പ്രതിരോധം എങ്ങനെയാണ്?
A5: SiC സെറാമിക്സ് തെർമൽ സൈക്ലിങ്ങിന് കീഴിൽ കുറഞ്ഞ രൂപഭേദത്തോടെ മികച്ച ഉയർന്ന താപനില പ്രകടനം നൽകുന്നു.

ഞങ്ങളേക്കുറിച്ച്

പ്രത്യേക ഒപ്റ്റിക്കൽ ഗ്ലാസുകളുടെയും പുതിയ ക്രിസ്റ്റൽ വസ്തുക്കളുടെയും ഹൈടെക് വികസനം, ഉത്പാദനം, വിൽപ്പന എന്നിവയിൽ എക്സ്‌കെഎച്ച് പ്രത്യേകത പുലർത്തുന്നു. ഞങ്ങളുടെ ഉൽപ്പന്നങ്ങൾ ഒപ്റ്റിക്കൽ ഇലക്ട്രോണിക്സ്, കൺസ്യൂമർ ഇലക്ട്രോണിക്സ്, സൈന്യം എന്നിവയ്ക്ക് സേവനം നൽകുന്നു. സഫയർ ഒപ്റ്റിക്കൽ ഘടകങ്ങൾ, മൊബൈൽ ഫോൺ ലെൻസ് കവറുകൾ, സെറാമിക്സ്, എൽടി, സിലിക്കൺ കാർബൈഡ് എസ്‌ഐസി, ക്വാർട്സ്, സെമികണ്ടക്ടർ ക്രിസ്റ്റൽ വേഫറുകൾ എന്നിവ ഞങ്ങൾ വാഗ്ദാനം ചെയ്യുന്നു. വൈദഗ്ധ്യവും അത്യാധുനിക ഉപകരണങ്ങളും ഉപയോഗിച്ച്, മുൻനിര ഒപ്റ്റോ ഇലക്ട്രോണിക് മെറ്റീരിയൽ ഹൈടെക് എന്റർപ്രൈസായി മാറാൻ ലക്ഷ്യമിട്ട്, നിലവാരമില്ലാത്ത ഉൽപ്പന്ന പ്രോസസ്സിംഗിൽ ഞങ്ങൾ മികവ് പുലർത്തുന്നു.